ٹنگسٹن سپٹرنگ ٹارگٹ

ZhenAn Tungsten Sputtering مینوفیکچررز

ٹنگسٹن سپٹرنگ تفصیل

پھٹے ہوئے ہدف (کیتھوڈ) اور اینوڈ کے درمیان ایک آرتھوگونل مقناطیسی میدان اور ایک برقی میدان شامل کیا جاتا ہے، اور مطلوبہ انارٹ گیس (عام طور پر آر گیس) ہائی ویکیوم چیمبر میں بھری جاتی ہے۔ برقی میدان کے عمل کے تحت، آر گیس کو مثبت آئنوں اور الیکٹرانوں میں آئنائز کیا جاتا ہے، ہدف میں ایک مخصوص منفی ہائی وولٹیج شامل کیا جاتا ہے۔

ہدف سے خارج ہونے والے الیکٹران مقناطیسی میدان سے متاثر ہوتے ہیں اور کام کرنے والی گیس کی آئنائزیشن کا امکان بڑھ جاتا ہے، جس سے کیتھوڈ کے قریب ایک اعلی کثافت پلازما بنتا ہے۔

آر آئنز لورینٹز فورس کے ذریعہ چلائے جاتے ہیں۔ یہ ہدف کی سطح کی طرف تیز ہوتا ہے اور ہدف کی سطح پر بہت تیز رفتاری سے بمباری کرتا ہے، تاکہ ہدف پر پھٹے ہوئے ایٹم رفتار کی تبدیلی کے اصول پر عمل کریں اور ایک فلم کو جمع کرنے کے لیے اعلی حرکی توانائی کے ساتھ ہدف کی سطح سے دور سبسٹریٹ تک اڑ جائیں۔

ZhenAn پھٹنے والے اہداف، بخارات کے ذرائع اور دیگر جمع کرنے والے مواد کی ایک جامع رینج پیش کرتا ہے، جو پوری سائٹ پر مواد کے لحاظ سے درج ہے۔ آپ کے تقاضوں سے مطابقت رکھنے والے اہداف اور جمع کرنے والے مواد کے لیے نیچے بجٹ کی قیمتوں کا تعین کریں۔ مارکیٹ کے اتار چڑھاو کی وجہ سے اصل قیمتیں مختلف ہو سکتی ہیں۔

ٹنگسٹن (W) عمومی معلومات

ٹنگسٹن، جسے ٹنگسٹن بھی کہا جاتا ہے، دنیا کے سب سے گھنے عناصر میں سے ایک ہے۔ اس کی کثافت 19.3 g/cc، 3,410 ڈگری کا پگھلنے کا نقطہ ہے، اور 2,757 ڈگری پر 10-4 Torr کا بخارات کا دباؤ ہے۔

ظاہری شکل سفید اور چمکدار ہے۔ یہ تمام دھاتوں میں سب سے زیادہ پگھلنے والے نقطہ کے طور پر جانا جاتا ہے، اور اس کی خصوصیت کی سختی اسے اپنی خالص شکل میں مشین بنانے اور بنانے میں مشکل بناتی ہے۔

ٹنگسٹن عام طور پر برقی فلیمینٹس بنانے کے لیے استعمال ہوتا ہے۔ ٹنگسٹن کاربائیڈ ڈرل بٹس، آریوں اور زیورات میں پایا جاتا ہے۔ ٹنگسٹن ویکیوم کے نیچے بخارات بن جاتا ہے اور اسے سیمی کنڈکٹرز، فیول سیلز اور سینسر کی تیاری میں استعمال کیا جاتا ہے۔