ٹنگسٹن سلسائیڈ پاؤڈر WSi2 پاؤڈر

ٹنگسٹن سلسائیڈ (WSi2) ایک غیر نامیاتی مرکب ہے جو ٹنگسٹن کا سلسائیڈ ہے۔ یہ ایک conductive سیرامک ​​مواد ہے.

مائیکرو الیکٹرانکس میں مزاحمیت کے ساتھ رابطے کے مواد کے طور پر استعمال کیا جاتا ہے 60-80 μΩ سینٹی میٹر؛ یہ 1000 ڈگری پر بنتا ہے۔ یہ اکثر پولی سیلیکون تاروں کی چالکتا اور سگنل کی رفتار کو بڑھانے کے لیے شنٹ کے طور پر استعمال ہوتا ہے۔ ٹنگسٹن سلسائیڈ پرت کو کیمیائی بخارات کے جمع کرنے سے تیار کیا جا سکتا ہے، مثال کے طور پر ٹنگسٹن ہیکسا فلورائیڈ کے ساتھ مونوسیلین یا ڈائیکلوروسیلین کو بطور ماخذ گیس۔ جمع شدہ فلم نان اسٹوچیومیٹرک ہے اور اسے زیادہ کنڈکٹیو اسٹوچیومیٹرک شکل میں تبدیل کرنے کے لیے اینیلنگ کی ضرورت ہے۔ ٹنگسٹن سلسائڈ ٹنگسٹن فلم کا ابتدائی متبادل ہے۔ ٹنگسٹن سلسائڈ کو سلکان اور دیگر دھاتوں جیسے ٹنگسٹن کے درمیان رکاوٹ کی تہہ کے طور پر بھی استعمال کیا جاتا ہے۔

ٹنگسٹن سلسائیڈ کی مائیکرو الیکٹرو مکینیکل سسٹمز میں بھی ایپلی کیشنز ہیں، اور یہ بنیادی طور پر ایک پتلی فلم کے طور پر مائیکرو اسکیل سرکٹس تیار کرنے کے لیے استعمال ہوتی ہے۔ اس مقصد کے لیے، ٹنگسٹن سلسائیڈ فلموں کو پلازما اینچ کیا جا سکتا ہے، مثال کے طور پر، نائٹروجن ٹرائی فلورائیڈ گیس۔

WSi2 اینٹی آکسیڈیشن کوٹنگز میں اچھی کارکردگی کا مظاہرہ کرتا ہے۔ خاص طور پر، molybdenum disilicide (MoSi2) کی طرح، ٹنگسٹن ڈسلیسائڈ کی زیادہ اخراج اس مواد کو اعلی درجہ حرارت کی ریڈی ایٹو کولنگ کے لیے پرکشش بناتی ہے اور تھرمل تحفظ کو متاثر کرتی ہے۔